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資料の状態
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No. |
資料番号 |
資料種別 |
請求記号 |
配架場所 |
状態 |
貸出
|
1 |
0010977288 | 図書一般 | 549.7/オカ11/ | 2F自然 | 貸出可 |
○ |
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書誌情報サマリ
タイトル |
はじめての半導体リソグラフィ技術
|
人名 |
岡崎 信次/著
|
人名ヨミ |
オカザキ シンジ |
出版者・発行者 |
技術評論社
|
出版年月 |
2012.1 |
書誌詳細
この資料の書誌詳細情報です。
書誌種別 |
図書 |
タイトル |
はじめての半導体リソグラフィ技術 |
シリーズ名 |
現場の即戦力 |
タイトルヨミ |
ハジメテ ノ ハンドウタイ リソグラフィ ギジュツ |
シリーズ名ヨミ |
ゲンバ ノ ソクセンリョク |
人名 |
岡崎 信次/著
鈴木 章義/著
上野 巧/著
|
人名ヨミ |
オカザキ シンジ スズキ アキヨシ ウエノ タクミ |
出版者・発行者 |
技術評論社
|
出版者・発行者等ヨミ |
ギジュツ ヒョウロンシャ |
出版地・発行地 |
東京 |
出版・発行年月 |
2012.1 |
ページ数または枚数・巻数 |
10,301p |
大きさ |
21cm |
価格 |
¥2580 |
ISBN |
978-4-7741-4939-4 |
ISBN |
4-7741-4939-4 |
注記 |
工業調査会 2003年刊の改訂 |
分類記号 |
549.7
|
件名 |
リソグラフィー
/
半導体
|
内容紹介 |
光、電子線、X線・EUVなど様々なリソグラフィ技術の原理、特徴などを述べ、リソグラフィ技術を支えるマスク技術、レジスト技術、計測評価技術についてふれる入門書。液浸露光技術、ダブルパターニング技術を加えた改訂版。 |
著者紹介 |
(株)ギガフォトンからEUVAに出向。IEEEフェロー、SPIEフェロー。 |
言語区分 |
JPN |
タイトルコード |
1009811496496 |
目次
内容細目
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