蔵書情報
この資料の蔵書に関する統計情報です。現在の所蔵数 在庫数 予約数などを確認できます。
資料の状態
各蔵書資料に関する詳細情報です。
No. |
資料番号 |
資料種別 |
請求記号 |
配架場所 |
状態 |
貸出
|
1 |
0007871965 | 図書一般 | 549.8/コハ07/ | 2F自然 | 貸出可 |
○ |
この資料に対する操作
カートに入れる を押すと この資料を 予約する候補として予約カートに追加します。
いますぐ予約する を押すと 認証後この資料をすぐに予約します。
この資料に対する操作
電子書籍を読むを押すと 電子図書館に移動しこの資料の電子書籍を読むことができます。
書誌情報サマリ
タイトル |
絵とき薄膜基礎のきそ
|
人名 |
小林 春洋/著
|
人名ヨミ |
コバヤシ ハルヒロ |
出版者・発行者 |
日刊工業新聞社
|
出版年月 |
2006.12 |
書誌詳細
この資料の書誌詳細情報です。
書誌種別 |
図書 |
タイトル |
絵とき薄膜基礎のきそ |
シリーズ名 |
Electronics Series |
タイトルヨミ |
エトキ ハクマク キソ ノ キソ |
シリーズ名ヨミ |
エレクトロニクス シリーズ |
人名 |
小林 春洋/著
|
人名ヨミ |
コバヤシ ハルヒロ |
出版者・発行者 |
日刊工業新聞社
|
出版者・発行者等ヨミ |
ニッカン コウギョウ シンブンシャ |
出版地・発行地 |
東京 |
出版・発行年月 |
2006.12 |
ページ数または枚数・巻数 |
9,168p |
大きさ |
21cm |
価格 |
¥2100 |
ISBN |
4-526-05791-6 |
注記 |
文献:p165〜166 |
分類記号 |
549.8
|
件名 |
薄膜
|
内容紹介 |
薄膜の基礎や薄膜を作る方法を紹介し、薄膜の成長過程がその特性に大きな影響を与えること、及び基本特性の評価について概説。良品質の薄膜を得るための条件を挙げ、垂直磁気記録と超LSIに関して薄膜技術との関係を述べる。 |
著者紹介 |
大正14年福島県生まれ。東北大学電気工学科卒業。東北大学工学部助教授、日電アネルバ(株)常務取締役、(株)トーキン特別顧問等を経て、コンサルタント。著書に「レーザのはなし」など。 |
言語区分 |
jpn |
タイトルコード |
1009810926414 |
目次
内容細目
関連資料
この資料に関連する資料を 同じ著者 出版年 分類 件名 受賞などの切り口でご紹介します。
もどる