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書誌情報サマリ

タイトル

超並列電子ビーム描画装置の開発

人名 江刺 正喜／著
人名ヨミ エサシ マサヨシ
出版者・発行者 東北大学出版会
出版年月 2018.6

書誌詳細

この資料の書誌詳細情報です。

書誌種別 図書
タイトル 超並列電子ビーム描画装置の開発
サブタイトル 集積回路のディジタルファブリケーションを目指して
タイトルヨミ チョウヘイレツ デンシ ビーム ビョウガ ソウチ ノ カイハツ
サブタイトルヨミ シュウセキ カイロ ノ ディジタル ファブリケーション オ メザシテ
人名 江刺 正喜／著 　 宮口 裕／著 　 小島 明／著 　 池上 尚克／著 　 越田 信義／著 　 菅田 正徳／著 　 大井 英之／著
人名ヨミ エサシ マサヨシ　ミヤグチ ヒロシ　コジマ アキラ　イケガミ ナオカツ　コシダ ノブヨシ　スガタ マサノリ　オオイ ヒデユキ
出版者・発行者 東北大学出版会
出版者・発行者等ヨミ トウホク ダイガク シュッパンカイ
出版地・発行地 仙台
出版・発行年月 2018.6
ページ数または枚数・巻数 7,228p
大きさ 21cm
価格 ￥３０００
ISBN 978-4-86163-296-9
ISBN 4-86163-296-9
注記 文献:章末,p217〜223
分類記号 549.1
件名 電子線
内容紹介 並列電子ビームによる描画の実用化に向けて、アクティブマトリックス超並列電子ビームの実験・開発の成果をまとめた書。並列電子ビーム描画の課題、各種電子源、実証実験結果、応用と今後の課題などについて解説する。
言語区分 JPN
タイトルコード 1009812224337
目次 第1章 マスクレス露光と電子ビーム描画・転写
1.1 マスクレス露光(描画)／1.2 各種電子ビーム描画・転写／参考文献
第2章 並列電子ビーム描画の課題
2.1 電子ビーム制御／2.2 電子ビームの集束と電子レンズ／2.3 描画速度／参考文献
第3章 並列電子ビーム描画装置用電子源
3.1 研究されてきた各種電子源／3.2 ナノクリスタルシリコン(nc‐Si)電子源／参考文献
第4章 超並列電子ビーム描画(MPEBW)
4.1 システム構成／4.2 電子源アレイ／4.3 電子源駆動LSI／4.4 電子源ユニットと電子ビーム制御システム／4.5 描画装置／4.6 等倍露光実験／4.7 マルチカラム化／参考文献
第5章 応用と今後の課題
5.1 デバイス大量生産への応用／5.2 マルチビーム技術の直接描画への応用／5.3 マルチビーム電子源の効果的な活用方法／5.4 マルチビーム1チップ直接描画装置(効果的応用例1)／5.5 光デバイス向けマルチビーム直接描画装置(効果的応用例2)／5.6 マルチビームSEMへの応用(効果的応用例3)／5.7 高安定電子源の必要性(今後の課題1)／5.8 高輝度電子源の必要性(今後の課題2)／5.9 まとめ／参考文献
まとめ(超並列電子ビーム描画装置開発の成果と今後の展望)



目次


内容細目

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549.1　549.1
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