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資料の状態
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No. |
資料番号 |
資料種別 |
請求記号 |
配架場所 |
状態 |
貸出
|
1 |
0011857539 | 図書一般 | 566.78/ヒヨ13/ | 2F自然 | 貸出可 |
○ |
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書誌情報サマリ
タイトル |
ドライプロセスによる表面処理・薄膜形成の基礎
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人名 |
表面技術協会/編
|
人名ヨミ |
ヒョウメン ギジュツ キョウカイ |
出版者・発行者 |
コロナ社
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出版年月 |
2013.5 |
書誌詳細
この資料の書誌詳細情報です。
書誌種別 |
図書 |
タイトル |
ドライプロセスによる表面処理・薄膜形成の基礎 |
タイトルヨミ |
ドライ プロセス ニ ヨル ヒョウメン ショリ ハクマク ケイセイ ノ キソ |
人名 |
表面技術協会/編
|
人名ヨミ |
ヒョウメン ギジュツ キョウカイ |
出版者・発行者 |
コロナ社
|
出版者・発行者等ヨミ |
コロナシャ |
出版地・発行地 |
東京 |
出版・発行年月 |
2013.5 |
ページ数または枚数・巻数 |
6,198p |
大きさ |
21cm |
価格 |
¥2800 |
ISBN |
978-4-339-04631-1 |
ISBN |
4-339-04631-1 |
注記 |
文献:p186〜195 |
分類記号 |
566.78
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件名 |
めっき
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内容紹介 |
ドライプロセスの基礎を学ぼうとする初学者のための入門書。ドライプロセスとプラズマに関する概要と歴史的発展過程から、真空とプラズマの基礎、代表的なドライプロセスの原理・原則、薄膜・表面評価分析技術までを解説する。 |
言語区分 |
JPN |
タイトルコード |
1009811668964 |
目次 |
1.ドライプロセスとプラズマ |
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1.1 表面処理/1.2 ドライプロセスと真空/1.3 PVD,CVDとプラズマとのかかわり/1.4 まとめ |
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2. 真空およびプラズマ |
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2.1 真空/2.2 プラズマ/2.3 プラズマ診断 |
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3. ドライプロセスによる表面処理と薄膜形成 |
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3.1 真空蒸着/3.2 イオンプレーティング/3.3 スパッタリング法/3.4 ドライエッチング/3.5 イオン注入法/3.6 CVD/3.7 プラズマ浸漬イオン注入/3.8 プラズマ窒化・浸炭 |
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4.分析と評価 |
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4.1 膜厚測定/4.2 表面分析/4.3 密着性評価/4.4 薄膜の内部応力/4.5 薄膜の摩擦・摩耗評価と硬度測定/4.6 ぬれ性・はっ水性評価 |
目次
内容細目
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