蔵書情報
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資料の状態
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No. |
資料番号 |
資料種別 |
請求記号 |
配架場所 |
状態 |
貸出
|
1 |
0010429660 | 図書一般 | 549.7/タナ11/ | 2F自然 | 貸出可 |
○ |
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書誌詳細
この資料の書誌詳細情報です。
書誌種別 |
図書 |
タイトル |
フォトマスク |
サブタイトル |
電子部品製造の基幹技術 |
並列タイトル |
Photomask Technology |
タイトルヨミ |
フォトマスク |
サブタイトルヨミ |
デンシ ブヒン セイゾウ ノ キカン ギジュツ |
人名 |
田邉 功/共著
竹花 洋一/共著
法元 盛久/共著
|
人名ヨミ |
タナベ イサオ タケハナ ヨウイチ ホウガ モリヒサ |
出版者・発行者 |
東京電機大学出版局
|
出版者・発行者等ヨミ |
トウキョウ デンキ ダイガク シュッパンキョク |
出版地・発行地 |
東京 |
出版・発行年月 |
2011.4 |
ページ数または枚数・巻数 |
323p |
大きさ |
21cm |
価格 |
¥3800 |
ISBN |
978-4-501-32820-7 |
ISBN |
4-501-32820-7 |
注記 |
「入門フォトマスク技術」(工業調査会 2006年刊)の改題 |
分類記号 |
549.7
|
件名 |
リソグラフィー
|
内容紹介 |
マスク技術に関する基本的な項目、内容を網羅した本。半導体デバイスをはじめ、電子部品分野であるFPDとPWB、ならびにMEMSで使用されるマスクについて記述。先端のフォトマスク技術も紹介する。 |
言語区分 |
JPN |
タイトルコード |
1009811421887 |
目次
内容細目
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