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書誌情報サマリ

タイトル

フォトマスク

人名 田邉 功/共著
人名ヨミ タナベ イサオ
出版者・発行者 東京電機大学出版局
出版年月 2011.4


書誌詳細

この資料の書誌詳細情報です。

書誌種別 図書
タイトル フォトマスク
サブタイトル 電子部品製造の基幹技術
並列タイトル Photomask Technology
タイトルヨミ フォトマスク
サブタイトルヨミ デンシ ブヒン セイゾウ ノ キカン ギジュツ
人名 田邉 功/共著   竹花 洋一/共著   法元 盛久/共著
人名ヨミ タナベ イサオ タケハナ ヨウイチ ホウガ モリヒサ
出版者・発行者 東京電機大学出版局
出版者・発行者等ヨミ トウキョウ デンキ ダイガク シュッパンキョク
出版地・発行地 東京
出版・発行年月 2011.4
ページ数または枚数・巻数 323p
大きさ 21cm
価格 ¥3800
ISBN 978-4-501-32820-7
ISBN 4-501-32820-7
注記 「入門フォトマスク技術」(工業調査会 2006年刊)の改題
分類記号 549.7
件名 リソグラフィー
内容紹介 マスク技術に関する基本的な項目、内容を網羅した本。半導体デバイスをはじめ、電子部品分野であるFPDとPWB、ならびにMEMSで使用されるマスクについて記述。先端のフォトマスク技術も紹介する。
言語区分 JPN
タイトルコード 1009811421887



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内容細目

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