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書誌情報サマリ

タイトル

例題で学ぶ半導体デバイス入門

人名 樋口 英世/著
人名ヨミ ヒグチ ヒデヨ
出版者・発行者 森北出版
出版年月 2010.9


書誌詳細

この資料の書誌詳細情報です。

書誌種別 図書
タイトル 例題で学ぶ半導体デバイス入門
タイトルヨミ レイダイ デ マナブ ハンドウタイ デバイス ニュウモン
人名 樋口 英世/著
人名ヨミ ヒグチ ヒデヨ
出版者・発行者 森北出版
出版者・発行者等ヨミ モリキタ シュッパン
出版地・発行地 東京
出版・発行年月 2010.9
ページ数または枚数・巻数 5,215p
大きさ 22cm
価格 ¥2800
ISBN 978-4-627-77411-7
ISBN 4-627-77411-7
注記 文献:p211
分類記号 549.8
件名 半導体
内容紹介 半導体デバイスについて、量子力学を前面に出さず、経験事実を示すことにより半導体のバンド構造(エネルギー帯)がどのように形成されるかを解説。数式の導出と解法はできるだけ省略なしに説明する。章末に練習問題を掲載。
著者紹介 東京工業大学大学院電子物理工学専攻博士課程修了。工学博士。三菱電機株式会社入社。半導体レーザの開発に従事。大阪電気通信大学教授。
言語区分 jpn
タイトルコード 1009811339162
目次 1章 結晶と自由電子
1.1 物質の抵抗率/1.2 固体の結晶構造と自由電子/演習問題
2章 エネルギー帯とキャリア
2.1 束縛された電子のエネルギー/2.2 半導体内の電子エネルギー/2.3 半導体のエネルギー帯とキャリア/2.4 正孔のエネルギー/2.5 導体,絶縁体,半導体のエネルギー帯構造/2.6 真性半導体/2.7 外因性半尊体/演習問題
3章 半導体のキャリア密度とフェルミ準位
3.1 熱平衡状態とキャリア密度/3.2 キャリア密度とフェルミ準位/演習問題
4章 半導体中の電気伝導
4.1 ドリフト電流/4.2 ホール効果/4.3 拡散と再結合・励起/4.4 キャリア連続の式/演習問題
5章 pn接合とダイオード
5.1 階段形pn接合/5.2 空乏層と拡散電位/5.3 空乏層の特性/5.4 電流-電圧特性/5.5 降伏/演習問題
6章 バイポーラトランジスタ
6.1 トランジスタの分類/6.2 接合型トランジスタの構成/6.3 増幅動作の概要/6.4 ベース接地電流増幅率/6.5 電流-電圧特性/6.6 ベース走行時間と周波数特性/6.7 電圧増幅率/6.8 出力回路の消費電力/演習問題
7章 金属,半導体,絶縁物の接触
7.1 半導体の表面準位/7.2 金属と半導体の接触/7.3 ショットキーダイオード/7.4 金属,絶縁物,半導体の接触と理想MOS構造/7.5 蓄積,空乏,反転/7.6 理想MOSの反転しきい値電圧/7.7 理想MOSの容量/7.8 理想MOSでない場合の補正/演習問題
8章 電界効果トランジスタ
8.1 電界効果トランジスタの分類/8.2 接合型FETの構造と動作原理/8.3 絶縁膜型FETの構造と動作原理/8.4 チャネル走行時間と遮断周波数/8.5 小信号等価回路/8.6 電圧増幅率/演習問題
9章 集積回路概論
9.1 集積回路の分類/9.2 モノリシックICの素子構造と製法/9.3 モノリシックICの動作概要/9.4 モノリシックICの特徴/演習問題



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内容細目

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