書誌種別 |
図書 |
タイトル |
例題で学ぶ半導体デバイス入門 |
タイトルヨミ |
レイダイ デ マナブ ハンドウタイ デバイス ニュウモン |
人名 |
樋口 英世/著
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人名ヨミ |
ヒグチ ヒデヨ |
出版者・発行者 |
森北出版
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出版者・発行者等ヨミ |
モリキタ シュッパン |
出版地・発行地 |
東京 |
出版・発行年月 |
2010.9 |
ページ数または枚数・巻数 |
5,215p |
大きさ |
22cm |
価格 |
¥2800 |
ISBN |
978-4-627-77411-7 |
ISBN |
4-627-77411-7 |
注記 |
文献:p211 |
分類記号 |
549.8
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件名 |
半導体
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内容紹介 |
半導体デバイスについて、量子力学を前面に出さず、経験事実を示すことにより半導体のバンド構造(エネルギー帯)がどのように形成されるかを解説。数式の導出と解法はできるだけ省略なしに説明する。章末に練習問題を掲載。 |
著者紹介 |
東京工業大学大学院電子物理工学専攻博士課程修了。工学博士。三菱電機株式会社入社。半導体レーザの開発に従事。大阪電気通信大学教授。 |
言語区分 |
jpn |
タイトルコード |
1009811339162 |
目次 |
1章 結晶と自由電子 |
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1.1 物質の抵抗率/1.2 固体の結晶構造と自由電子/演習問題 |
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2章 エネルギー帯とキャリア |
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2.1 束縛された電子のエネルギー/2.2 半導体内の電子エネルギー/2.3 半導体のエネルギー帯とキャリア/2.4 正孔のエネルギー/2.5 導体,絶縁体,半導体のエネルギー帯構造/2.6 真性半導体/2.7 外因性半尊体/演習問題 |
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3章 半導体のキャリア密度とフェルミ準位 |
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3.1 熱平衡状態とキャリア密度/3.2 キャリア密度とフェルミ準位/演習問題 |
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4章 半導体中の電気伝導 |
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4.1 ドリフト電流/4.2 ホール効果/4.3 拡散と再結合・励起/4.4 キャリア連続の式/演習問題 |
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5章 pn接合とダイオード |
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5.1 階段形pn接合/5.2 空乏層と拡散電位/5.3 空乏層の特性/5.4 電流-電圧特性/5.5 降伏/演習問題 |
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6章 バイポーラトランジスタ |
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6.1 トランジスタの分類/6.2 接合型トランジスタの構成/6.3 増幅動作の概要/6.4 ベース接地電流増幅率/6.5 電流-電圧特性/6.6 ベース走行時間と周波数特性/6.7 電圧増幅率/6.8 出力回路の消費電力/演習問題 |
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7章 金属,半導体,絶縁物の接触 |
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7.1 半導体の表面準位/7.2 金属と半導体の接触/7.3 ショットキーダイオード/7.4 金属,絶縁物,半導体の接触と理想MOS構造/7.5 蓄積,空乏,反転/7.6 理想MOSの反転しきい値電圧/7.7 理想MOSの容量/7.8 理想MOSでない場合の補正/演習問題 |
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8章 電界効果トランジスタ |
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8.1 電界効果トランジスタの分類/8.2 接合型FETの構造と動作原理/8.3 絶縁膜型FETの構造と動作原理/8.4 チャネル走行時間と遮断周波数/8.5 小信号等価回路/8.6 電圧増幅率/演習問題 |
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9章 集積回路概論 |
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9.1 集積回路の分類/9.2 モノリシックICの素子構造と製法/9.3 モノリシックICの動作概要/9.4 モノリシックICの特徴/演習問題 |