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資料の状態
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No. |
資料番号 |
資料種別 |
請求記号 |
配架場所 |
状態 |
貸出
|
1 |
0008979106 | 図書一般 | 549.8/タル08/ | 2F自然 | 貸出可 |
○ |
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書誌情報サマリ
タイトル |
世界をリードする半導体共同研究プロジェクト
|
人名 |
垂井 康夫/編著
|
人名ヨミ |
タルイ ヤスオ |
出版者・発行者 |
工業調査会
|
出版年月 |
2008.12 |
書誌詳細
この資料の書誌詳細情報です。
書誌種別 |
図書 |
タイトル |
世界をリードする半導体共同研究プロジェクト |
サブタイトル |
日本半導体産業復活のために |
タイトルヨミ |
セカイ オ リード スル ハンドウタイ キョウドウ ケンキュウ プロジェクト |
サブタイトルヨミ |
ニホン ハンドウタイ サンギョウ フッカツ ノ タメ ニ |
人名 |
垂井 康夫/編著
|
人名ヨミ |
タルイ ヤスオ |
出版者・発行者 |
工業調査会
|
出版者・発行者等ヨミ |
コウギョウ チョウサカイ |
出版地・発行地 |
東京 |
出版・発行年月 |
2008.12 |
ページ数または枚数・巻数 |
318p |
大きさ |
21cm |
価格 |
¥2300 |
ISBN |
978-4-7693-1277-2 |
ISBN |
4-7693-1277-2 |
分類記号 |
549.8
|
件名 |
半導体
|
内容紹介 |
通産省が1975〜1980年に行ったプロジェクト「超LSI共同研究所」とそれ以降の主な研究プロジェクトをレビュー。特に製造装置に重点をおいた効果を考え、その後の研究にどのように生かされてきたかなどを検証する。 |
言語区分 |
jpn |
タイトルコード |
1009811139677 |
目次
内容細目
-
超LSI共同研究所
共同研究所の元祖
13-42
-
垂井 康夫/著
-
SEMATECH
先端量産技術開発のための共同研究
45-72
-
鴨志田 元孝/著 三浦 義男/著
-
IMEC
世界の半導体企業にとって魅力ある独立研究機関
73-100
-
赤城 三男/著
-
オルバニーナノテク
研究・教育発信源としての総合施設
101-126
-
鴨志田 元孝/著 三浦 義男/著
-
あすか(ASUKA)プロジェクト
日本半導体の復活をめざす
129-140
-
禿 節史/著
-
半導体先端テクノロジーズ(Selete)
日本の総力を結集した先端技術研究開発組織
141-166
-
相崎 尚昭/著
-
半導体理工学研究センター(STARC)
設計技術力の強化と人材育成に取り組む
167-182
-
禿 節史/著
-
先端SoC基盤技術開発(ASPLA)
夢見た日の丸ファウンドリ
183-196
-
禿 節史/著
-
超先端電子技術開発機構(ASET)
基盤技術開発を担う研究組合
197-215
-
赤城 三男/著 相崎 尚昭/著
-
半導体MIRAIプロジェクト
世界レベルの技術を開発
217-235
-
赤城 三男/著 相崎 尚昭/著
-
HALCAプロジェクト
製造装置を含む実現可能なミニファブの提案
237-253
-
溝渕 裕三/著
-
DIINプロジェクト
瞬時製品化対応新生産方式と装置事業の創出
255-280
-
溝渕 裕三/著
-
極端紫外線露光システム技術開発機構(EUVA)
世界レベルのEUV露光システム技術を開発
281-304
-
赤城 三男/著 相崎 尚昭/著
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