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資料の状態
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No. |
資料番号 |
資料種別 |
請求記号 |
配架場所 |
状態 |
貸出
|
1 |
0008942849 | 図書一般 | 549.6/ハク08/ | 書庫 | 貸出可 |
○ |
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書誌情報サマリ
タイトル |
薄膜トランジスタ
|
人名 |
薄膜材料デバイス研究会/編
|
人名ヨミ |
ハクマク ザイリョウ デバイス ケンキュウカイ |
出版者・発行者 |
コロナ社
|
出版年月 |
2008.11 |
書誌詳細
この資料の書誌詳細情報です。
書誌種別 |
図書 |
タイトル |
薄膜トランジスタ |
並列タイトル |
Thin‐Film Transistor |
タイトルヨミ |
ハクマク トランジスタ |
人名 |
薄膜材料デバイス研究会/編
|
人名ヨミ |
ハクマク ザイリョウ デバイス ケンキュウカイ |
出版者・発行者 |
コロナ社
|
出版者・発行者等ヨミ |
コロナシャ |
出版地・発行地 |
東京 |
出版・発行年月 |
2008.11 |
ページ数または枚数・巻数 |
8,229p |
大きさ |
21cm |
価格 |
¥3000 |
ISBN |
978-4-339-00802-9 |
ISBN |
4-339-00802-9 |
注記 |
文献:p215〜224 |
分類記号 |
549.6
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件名 |
薄膜トランジスタ
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内容紹介 |
近年発展目覚しい薄膜トランジスタ(TFT)について、概論および発展史から動作原理、作製技術、各種評価技術、劣化現象や信頼性評価技術、応用技術や将来技術に至るまで、広範囲な知識を系統的に解説する。 |
言語区分 |
jpn |
タイトルコード |
1009811127511 |
目次 |
1.序論 |
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1.1 薄膜トランジスタ(TFT)とはなにか/1.2 TFT発展の歴史 |
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2.TFTの動作原理 |
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2.1 基本的な動作原理/2.2 基礎知識/2.3 捕獲準位/2.4 より詳しい動作原理/2.5 種々のTFT |
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3.TFT作製技術 |
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3.1 トップゲート構造およびボトムゲート構造/3.2 水素化非晶質シリコンTFT作製技術/3.3 多結晶シリコンTFT作製技術/3.4 有機TFT作製技術/3.5 酸化物TFT作製技術 |
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4.評価技術 |
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4.1 膜厚/4.2 構造評価/4.3 組成分析/4.4 光学評価/4.5 電気特性 |
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5.TFTの劣化現象と信頼性評価技術 |
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5.1 非晶質シリコンTFTにおける劣化現象/5.2 低温多結晶シリコンTFTにおける劣化現象/5.3 酸化物TFTにおける劣化現象 |
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6.TFTの応用技術 |
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6.1 TFTのディスプレイ応用/6.2 TFTのセンサ応用 |
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7.TFTの将来技術 |
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7.1 映像ディスプレイ用TFT技術の将来/7.2 フレキシブルディスプレイ用TFT技術の将来 |
目次
内容細目
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