蔵書情報
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資料の状態
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No. |
資料番号 |
資料種別 |
請求記号 |
配架場所 |
状態 |
貸出
|
1 |
0008034753 | 図書一般 | 549.7/ヤマ07/ | 2F自然 | 貸出可 |
○ |
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書誌詳細
この資料の書誌詳細情報です。
書誌種別 |
図書 |
タイトル |
ナノテクノロジーとレジスト材料 |
並列タイトル |
Nano Technology and Polymer Resist |
シリーズ名 |
CMCテクニカルライブラリー |
シリーズ番号 |
256 |
タイトルヨミ |
ナノテクノロジー ト レジスト ザイリョウ |
シリーズ名ヨミ |
シーエムシー テクニカル ライブラリー |
シリーズ番号ヨミ |
256 |
人名 |
山岡 亞夫/監修
|
人名ヨミ |
ヤマオカ ツグオ |
版 |
普及版 |
出版者・発行者 |
シーエムシー出版
|
出版者・発行者等ヨミ |
シーエムシー シュッパン |
出版地・発行地 |
東京 |
出版・発行年月 |
2007.4 |
ページ数または枚数・巻数 |
6,253p |
大きさ |
21cm |
価格 |
¥3600 |
ISBN |
978-4-88231-921-4 |
ISBN |
4-88231-921-4 |
注記 |
初版のタイトル:新しいレジスト材料とナノテクノロジー |
分類記号 |
549.7
|
件名 |
リソグラフィー
/
ナノテクノロジー
|
内容紹介 |
ナノテクノロジーについて、トップダウンの技術とボトムアップ技術、およびこれらの中間に存在して、日常的に役立っているものについて取り上げる。また、それぞれの周辺の材料やプロセスに関して整理する。 |
言語区分 |
jpn |
タイトルコード |
1009810960314 |
目次
内容細目
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