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1 0007862733図書一般549.7/ﾀﾅ06/2F自然貸出可  ○

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書誌情報サマリ

タイトル

入門フォトマスク技術

人名 田邉 功／著
人名ヨミ タナベ イサオ
出版者・発行者 工業調査会
出版年月 2006.12

書誌詳細

この資料の書誌詳細情報です。

書誌種別 図書
タイトル 入門フォトマスク技術
サブタイトル LSI,FPD,PWB,MEMSのためのフォトマスク
並列タイトル Introduction to Photomask Technology
タイトルヨミ ニュウモン フォト マスク ギジュツ
サブタイトルヨミ エルエスアイ エフピーディー ピーダブリュービー メムス ノ タメ ノ フォト マスク
人名 田邉 功／著 　 竹花 洋一／著 　 法元 盛久／著
人名ヨミ タナベ イサオ　タケハナ ヨウイチ　ホウガ モリヒサ
出版者・発行者 工業調査会
出版者・発行者等ヨミ コウギョウ チョウサカイ
出版地・発行地 東京
出版・発行年月 2006.12
ページ数または枚数・巻数 323p
大きさ 21cm
価格 ￥３８００
ISBN 4-7693-1259-8
分類記号 549.7
件名 リソグラフィー
内容紹介 半導体ならびに電子部品分野の技術に関係している方々を対象に、マスク技術に関する基本的な項目、内容を網羅した参考書。半導体デバイスのみならず、FPDとPWB、ならびにMEMSで使用されるマスクについても記述。
著者紹介 千葉大学工学部工業化学科写真映画専攻卒業。(有)ITコンサルティング代表取締役社長。
言語区分 jpn
タイトルコード 1009810920500



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