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資料の状態
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No. |
資料番号 |
資料種別 |
請求記号 |
配架場所 |
状態 |
貸出
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1 |
0006814651 | 図書一般 | 549.7/クロ05/ | 2F自然 | 貸出可 |
○ |
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書誌情報サマリ
タイトル |
学びやすい集積回路工学
|
人名 |
黒木 幸令/著
|
人名ヨミ |
クロキ ユキノリ |
出版者・発行者 |
昭晃堂
|
出版年月 |
2005.10 |
書誌詳細
この資料の書誌詳細情報です。
書誌種別 |
図書 |
タイトル |
学びやすい集積回路工学 |
タイトルヨミ |
マナビヤスイ シュウセキ カイロ コウガク |
人名 |
黒木 幸令/著
|
人名ヨミ |
クロキ ユキノリ |
出版者・発行者 |
昭晃堂
|
出版者・発行者等ヨミ |
ショウコウドウ |
出版地・発行地 |
東京 |
出版・発行年月 |
2005.10 |
ページ数または枚数・巻数 |
4,158p |
大きさ |
21cm |
価格 |
¥2850 |
ISBN |
4-7856-1216-9 |
分類記号 |
549.7
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件名 |
集積回路
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内容紹介 |
半導体材料、デバイス、回路の立場から、集積回路が情報エレクトロニクス機器としてどのように作られ、どのようにシステム的に組み上げられていくか、その関係を明らかにしたテキスト。 |
言語区分 |
jpn |
タイトルコード |
1009810792537 |
目次 |
第1章 半導体集積回路とエレクトロニクス産業 |
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1.1 エレクトロニクス機器の進歩と半導体集積回路/1.2 回路基板と集積回路 |
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第2章 半導体の基礎 |
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2.1 半導体材料/2.2 電子と正孔/2.3 不純物添加によるキャリア密度の制御/2.4 キャリアの分布 |
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第3章 半導体内でのキャリアの動きとその制御 |
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3.1 オームの法則(電界によるドリフト運動)と速度限界/3.2 拡散電流(濃度の濃いところから薄いところへの流れ)/3.3 キャリアの発生と消滅/3.4 pn接合によるキャリア注入/3.5 空乏層と電界効果 |
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第4章 アナログ増幅器 |
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4.1 バイポーラ・トランジスタの構造と動作原理/4.2 バイポーラ・トランジスタのⅠ-V特性/4.3 増幅の原理(AC小信号特性)/4.4 電流制御モード増幅回路 |
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第5章 MOSFETの基本構造とスイッチング特性 |
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5.1 MOSFETの構造/5.2 しきい電圧(チャネル形成に必要なゲート電圧)/5.3 直流電流電圧特性/5.4 飽和特性/5.5 小信号増幅能力指数/5.6 走行時間と動作周波数/5.7 スイッチング特性と寄生容量 |
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第6章 CMOS論理ゲート回路 |
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6.1 インバータとバッファ/6.2 NAND回路とNOR回路/6.3 排他的論理EXOR回路/6.4 多入力ゲートと複合論理ゲート/6.5 パストランジスタとスイッチ/6.6 Dフリップ・フロップとラッチ回路 |
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第7章 メモリ集積回路の基本構造と特性 |
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7.1 DRAM/7.2 SRAM/7.3 不揮発性メモリ/7.4 マスクROMとFuse |
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第8章 AD/DA変換回路 |
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8.1 AD変換器/8.2 DA変換器/8.3 電荷再配分型DA変換器/8.4 負帰還型AD変換器/8.5 アナログ回路の精度を決める要因 |
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第9章 集積化プロセス |
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9.1 ウエハの製作/9.2 熱酸化/9.3 熱CVD,プラズマCVD/9.4 PVD/9.5 不純物拡散とイオン注入/9.6 リソグラフィ/9.7 エッチング/9.8 CMP/9.9 CMOSプロセスの流れ |
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第10章 集積回路の設計 |
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10.1 デバイス設計/10.2 プロセス設計/10.3 基本回路セル設計/10.4 ハードウェア記述言語を用いた設計と論理合成/10.5 レイアウト設計(配置配線)/10.6 検証/10.7 テスト容易化設計 |
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第11章 スケーリング則の破綻と新材料・プロセスへの期待 |
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11.1 トランジスタのスケーリング則/11.2 配線のスケーリング/11.3 MOSFETの高性能化/11.4 低電圧化と低消費電力化 |
目次
内容細目
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