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資料の状態
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No. |
資料番号 |
資料種別 |
請求記号 |
配架場所 |
状態 |
貸出
|
1 |
0002864312 | 図書一般 | 549.8/フセ91/ | 書庫 | 貸出可 |
○ |
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書誌情報サマリ
タイトル |
ここまできたイオン注入技術
|
人名 |
布施 玄秀/編著
|
人名ヨミ |
フセ ゲンシュウ |
出版者・発行者 |
工業調査会
|
出版年月 |
1991.6 |
書誌詳細
この資料の書誌詳細情報です。
書誌種別 |
図書 |
タイトル |
ここまできたイオン注入技術 |
サブタイトル |
超LSIプロセスのリード役 |
シリーズ名 |
ケイブックス |
シリーズ番号 |
79 |
タイトルヨミ |
ココマデ キタ イオン チュウニュウ ギジュツ |
サブタイトルヨミ |
チョウエルエスアイ プロセス ノ リードヤク |
シリーズ名ヨミ |
ケイ ブックス |
シリーズ番号ヨミ |
79 |
人名 |
布施 玄秀/編著
平尾 孝/編著
|
人名ヨミ |
フセ ゲンシュウ ヒラオ タカシ |
出版者・発行者 |
工業調査会
|
出版者・発行者等ヨミ |
コウギョウ チョウサカイ |
出版地・発行地 |
東京 |
出版・発行年月 |
1991.6 |
ページ数または枚数・巻数 |
182p |
大きさ |
19cm |
価格 |
¥1748 |
ISBN |
4-7693-6080-0 |
分類記号 |
549.8
|
件名 |
半導体
|
内容紹介 |
超LSIを支えるプロセス加工技術の中でもイオン注入技術は半導体プロセスに大きな革命をもたらしてきた。イオン注入の基礎とデバイス応用、さらに装置の内容について解説する。 |
言語区分 |
jpn |
タイトルコード |
1005010157287 |
目次
内容細目
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